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　　美光(guā丙烯是直接用还是沾水用的 丙烯是气体还是液体ng)公司在华销(xiāo)售的产品未通过网络安全(quán)审查

　　据网信办消息，日前，网络安全审(shěn)查办公(gōng)室依法对美光(guāng)公司在华销售(shòu)产品(pǐn)进行了网络安全审查。

　　审(shěn)查(chá)发(fā)现，美光公司产品存在较严重网络安全问题隐患，对我国(guó)关(guān)键信息基础设施(shī)供(gōng)应链造丙烯是直接用还是沾水用的 丙烯是气体还是液体成重大安全风险，影(yǐng)响我国国家安全。为(wèi)此，网络(luò)安全审(shěn)查办公室依法作出不(bù)予(yǔ)通过网(wǎng)络安全(quán)审查的结论。按照《网络安全法》等(děng)法律(lǜ)法规，我国内关键信息基础(chǔ)设施的运营者应停止采购美光公司产品。

　　此次对(duì)美(měi)光(guāng)公(gōng)司产品进行网络安全审查，目的是防范(fàn)产品网络安全(quán)问(wèn)题(tí)危害国家关键信息基础设施安(ān)全，是维护国家(jiā)安(ān)全的必要措施。中国坚定推进(jìn)高水平对(duì)外开放(fàng)，只(zhǐ)要遵守(shǒu)中国法律(lǜ)法(fǎ)规要(yào)求，欢迎各国企业(yè)、各类平(píng)台产品服务(wù)进入中国(guó)市(shì)场。

　　3月31日(rì)，中国网信网发文称，为保(bǎo)障关(guān)键(jiàn)信息基础设施供应链安全，防范(fàn)产(chǎn)品问题隐患造成网络安全风险，维护国家安全，依(yī)据《中华(huá)人民共(gòng)和国国(guó)家安全法》《中华人民共和(hé)国网络安全法》，网络(luò)安全审查办(bàn)公室按照(zhào)《网络(luò)安全审查办(bàn)法》，对美光公司（Micron）在(zài)华销售的产品实施网络安全(quán)审查。

　　美(měi)光是(shì)美国的存(cún)储(chǔ)芯片行业龙头(tóu)，也是全球存储(chǔ)芯(xīn)片巨(jù)头之一，2022年(nián)收入(rù)来自中国(guó)市场收入从此(cǐ)前高(gāo)峰(fēng)57％降至2022年约11％。根据市场咨询(xún)机构 Omdia（IHS Markit）统计，2021 年三星电子、 铠侠、西部数据(jù)、SK 海(hǎi)力士、美光、Solidigm 在(zài)全(quán)球 NAND Flash （闪存(cún)）市场份额约(yuē)为 96.76％，三星电子、 SK 海力士、美(měi)光(guāng)在全(quán)球 DRAM （内(nèi)存(cún)）市(shì)场份(fèn)额约(yuē)为 94.35％。

　　A股上市公司中，江(jiāng)波龙(lóng)、佰维存储等公司披露过美光等国际存储厂商为公司(sī)供应商(shāng)。

　　美光在江波(bō)龙采(cǎi)购(gòu)占比已经显著(zhù)下降，至少已经(jīng)不是主要大供应商。

　　公告显示(shì)， 2021年美光(guāng)位列江波龙第一大(dà)存储晶圆供应商，采购约(yuē)31亿元(yuán)，占(zhàn)比33.52％；2022年，江波龙第一大(dà)、第(dì)二(èr)大和第三大供应商(shāng)采购金额占(zhàn)比(bǐ)分别是26.28％、22.85％和5.76％。

　　目前(qián)江波(bō)龙已经在存储产(chǎn)业链(liàn)上下游建立(lì)国内外广泛合(hé)作。2022年年报显示，江波龙与三星、美光、西部数据等主(zhǔ)要存储晶圆原厂签(qiān)署了长期合约，确保(bǎo)存(cún)储晶圆(yuán)供(gōng)应(yīng)的稳定性，巩固公司在下游市场的(de)供应优(yōu)势，公司也与国内国产存储晶圆原厂武汉长江(jiāng)存(cún)储、合(hé)肥长鑫保持良好的合(hé)作。

　　有券(quàn)商此前(丙烯是直接用还是沾水用的 丙烯是气体还是液体qián)就(jiù)分析(xī)，如果美光在中(zhōng)国(guó)区销售(shòu)受到限制，或将导(dǎo)致下(xià)游(yóu)客(kè)户转而采购国外三星、 SK海力(lì)士(shì)，国内长江存储、长鑫存(cún)储(chǔ)等竞对(duì)产品

　　分析称，长存、长鑫(xīn)的上游(yóu)设备厂或从(cóng)中受益。存储器的生(shēng)产已经演进到1Xnm、1Ynm甚至(zhì)1Znm的工艺。另外NAND Flash现在已(yǐ)经进入3D NAND时代(dài)，2 维到3维的结构转变(biàn)使刻蚀和(hé)薄膜(mó)成为最关键、最(zuì)大(dà)量的(de)加工设备。3D NAND每层均需(xū)要(yào)经过薄膜沉积工艺步骤，同时刻蚀目前前沿要刻到 60：1的深孔，未来(lái)可能会更深的孔或者沟槽(cáo)，催生更(gèng)多设备(bèi)需求。据东京电子(zi)披露，薄(báo)膜(mó)沉积设备及(jí)刻蚀占3D NAND产线资本(běn)开支合计为75％。自长江存储被加入美国限(xiàn)制名单，设备国产化进程加速，看(kàn)好拓(tuò)荆科技（薄膜沉积(jī)）等相关公司(sī)份(fèn)额提升(shēng)，以(yǐ)及存储(chǔ)业务占比较高的华海清科（CMP）、盛美(měi)上海（清洗）等(děng)收入增(zēng)长(zhǎng)。

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